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功能性電子電鍍:酸性鍍金
酸性鍍金是隨著功能性鍍金層的需要而發(fā)展起來的技術(shù),在工業(yè)領(lǐng)域已經(jīng)有廣泛的應(yīng)用,是現(xiàn)代電子和微電子行業(yè)必不可少的鍍種。這主要是由于酸性鍍金有著較多的技術(shù)優(yōu)勢。比如光亮度、硬度、耐磨性、高結(jié)合力、高密度、高分散能力等。
酸性鍍金的pH值一般在3~3.5之間,鍍層的純度在99.99%以上。鍍層的硬度和耐磨性等都比堿性氰化物鍍層的要高,且可以鍍得較厚的鍍層。
典型的酸性鍍金工藝如下:
氰化金鉀 4g/L
溫度 60℃
檸檬酸銨 90g/L
pH值 3~6
電流密度 lA/dm2
陽極 碳或白金
改進(jìn)的酸性鍍金工藝:
氰化金鉀 8g/L
硫酸鈷 O.05g/L
檸檬酸鈉 50g/L
溫度 32℃
檸檬酸 l2g/L
電流密度 lA/dm2
用于酸性鍍金的絡(luò)合劑除了檸檬酸鹽外,還有酒石酸鹽、EDTA等。調(diào)節(jié)pH值則可以采用硫酸氫鈉等。也有添加導(dǎo)電鹽以改善鍍層性能,比如磷酸氫鉀、磷酸氫銨、焦磷酸鈉等。選擇好適當(dāng)?shù)慕j(luò)合劑和導(dǎo)電鹽,可以獲得較好的效果。
金鹽的濃度可以在1~10g/L的范圍變化。電流密度的范圍則在0.1~2.0A/dm2。在溫度為60~65℃的條件,進(jìn)行強(qiáng)力攪拌,可以獲得光亮的鍍金層。
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